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了解晶圆键合:MEMS、NEMS 和微电子的核心工艺

晶圆键合是为微机电系统 (MEMS)、纳米机电系统 (NEMS) 或光电或微电子物体创建器件的过程。 “晶圆”是一小片半导体材料,例如硅,用于制造电路和其他电子设备。在键合过程中,机械或电子器件被熔合到晶圆本身,从而形成成品芯片。晶圆键合取决于环境,这意味着它只能在一系列严格控制的条件下进行。

为了完成晶圆键合过程,需要三件事。首先是基板表面(晶圆本身)必须没有问题;这意味着它必须平坦、光滑、干净才能成功粘合。除此之外,所粘合的电气或机械材料还必须没有缺陷和故障。其次,必须根据所使用的具体粘合方法精确设置环境温度。第三,粘合过程中使用的压力和施加的力必须准确,以便实现熔合,而不会破裂或以其他方式损坏任何重要的电子或机械部件。

有多种不同的晶圆键合技术,具体取决于具体情况和键合材料的类型。直接键合是指在电子器件和基板之间不使用任何中间层的键合。另一方面,等离子体激活粘合是一种直接粘合工艺,用于涉及亲水表面的材料,即表面被水吸引并溶解的材料。热压粘合涉及通过力和热刺激将两种金属连接起来,本质上是将它们“粘合”在一起。其他粘合方法包括粘合剂粘合、反应粘合和玻璃料粘合。

一旦晶圆粘合在一起,必须测试粘合表面以查看该过程是否成功。通常,批次期间产生的一部分产量会留出用于破坏性和非破坏性测试方法。采用破坏性测试方法来测试成品的整体剪切强度。采用无损方法评估粘合过程中是否出现裂纹或异常,有助于确保成品没有缺陷。

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