半导体行业的Semitron® MPR1000
Semitron® MPR1000 是三菱化学先进材料公司为半导体应用开发的新型工程材料。 MPR 代表最大等离子电阻。它旨在用于真空等离子室，以替代用于 ICU 生产的陶瓷和石英。 
陶瓷更贵，石英容易破裂。在此应用中，它的性能也优于 PEEK、PAI（如 Torlon®）或聚酰亚胺热塑性塑料。例如，MRP1000 在等离子室中的寿命比 Vespel® 等聚酰亚胺高 25 倍。
由 MPR1000 制成的零件包括螺钉、六角螺母、平垫圈、夹环、沟槽环、销和淋浴喷头以及定心销、聚焦环、绝缘体、真空垫、晶圆导轨和许多定制零件。
Semitron® MPR1000 的优点
优异的耐热性
等离子室的低腐蚀率
低离子含量和低释气
优异的抗碎屑性
优异的耐用性
易于加工
成本最低的塑料材料，同时在等离子室中提供最高性能
什么是等离子？
等离子体通常被描述为物质的第四种状态，因为它既不是液体、气体也不是固体。它以离子和电子的形式存在。从本质上讲，等离子体是一种电离气体，带有额外的负电子和正电子。虽然等离子体确实存在于宇宙的其他地方，但地球上几乎没有自然发生的等离子体。我们星球上的等离子体例子有闪电、静电和极光。
为什么用等离子处理表面？
硅晶片表面的等离子体处理通常用于清洁、表面活化、沉积和蚀刻。用等离子处理表面可以去除任何外来污染物，因此更适合进一步加工。
表面的等离子处理通常在已排空空气的腔室中进行。然后气体在低压下流入腔室。通常使用工业氧气作为工艺气体，因此俗称“富氧等离子体”。但也经常使用氮气、氩气、氢气和碳四氟甲烷。这些气体或它们的组合用于全球大多数实验室。 Semitron MPR1000 比传统材料更能承受这些恶劣的环境：石英、陶瓷、Torlon®、Vespel® 或 PEEK。
然后通过在电极阵列之间产生的射频功率为气体提供能量。结果是等离子。通过选择混合气体、压力和功率，可以精确控制等离子体处理对表面的影响。
低侵蚀率
与富氧等离子体中的重量减轻百分比相比，Semitron® MPR1000 的性能优于 PEEK、Torlon® 和 Vespel®。 MPR1000 在 1KW 中侵蚀 0.44%。 PEEK 损失 7.98%，而 Torlon 侵蚀 6.86%，Vespel 侵蚀 6.15%。 MPR1000 的性能比 Vespel 好 13 倍。
清洁度：低离子材料含量和低释气
Semitron® MPR1000 具有低离子材料含量和低释气率。离子是带有电荷的原子或分子。因此，真空等离子室中材料的污染会很低。
成本
Semitron® MPR1000 的总体成本低于其他常用材料，同时在等离子体室中提供最高性能。
打印件、零件或问题？请联系 Craftech Industries, Inc. 纽约州哈德逊市。
Craftech 是 Semitron MPR1000 中紧固件、组件和定制零件的制造商。
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