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基于DFT的MoX₂ (S, Se, Te) 单层材料上甲烷吸附研究

摘要

本研究采用密度泛函理论(DFT),系统探讨了甲烷(CH₄)与含有不同缺陷类型的MoX₂(X = S, Se, Te)单层材料之间的相互作用。计算结果表明,缺陷工程能显著增强甲烷在MoX₂表面的吸附性能。在所有缺陷类型中,MoTe₂的双空位(MV_D)表现出最强的吸附能力,具有最大的电荷转移量和最短的吸附距离。这些发现表明,含双空位的MoTe₂是开发甲烷传感器件的极具潜力的材料平台。

引言

甲烷(CH₄)是一种无色、无味、无毒的气体,但高浓度甲烷会置换氧气并带来健康风险。当大气中甲烷浓度超过25%–30%时,可能引起头痛、眩晕和呼吸急促等症状。二维过渡金属二硫属化物(TMDs),如MoX₂(X = S, Se, Te),因其固有的带隙和在气体传感应用中的潜力而备受关注。缺陷——特别是空位——会改变TMDs的电子性质,进而影响其与吸附分子的相互作用。本文利用第一性原理计算,探讨了甲烷在完美和缺陷MoX₂单层上的吸附行为,旨在筛选出最高效的传感材料。

计算方法与理论

构建了4 × 4超胞的MoX₂(含32个X原子和16个Mo原子),并在Materials Studio中将CH₄置于其上方。所有计算均采用DMol³软件包,使用PBE泛函和6 × 6 × 1的k点网格。截断能设为340 eV,自洽收敛精度为10⁻⁵ eV。原子位置松弛至受力小于0.03 eV/Å。吸附能通过以下公式计算:

\[E_{ad}=E_{MoX₂+CH₄}-\left(E_{MoX₂}+E_{CH₄}\right)\]

电荷转移采用Mulliken布居分析进行评估。

结果与讨论

MoX₂的几何与电子结构

优化后的Mo–X键长分别为:Mo–S 2.426 Å,Mo–Se 2.560 Å,Mo–Te 2.759 Å,与实验值(2.410 Å,2.570 Å,2.764 Å)吻合良好。引入空位后,相邻Mo–X键长缩短,反映出局部相互作用增强。

基于DFT的MoX₂ (S, Se, Te) 单层材料上甲烷吸附研究
图2:(a) 完美MoX₂,(b) S空位,(c) Mo空位,(d) 双空位的俯视图。

吸附能、距离与电荷转移

吸附前,CH₄距离表面3.6 Å。考虑范德华修正后的吸附能范围为:MoS₂为–0.31至–0.52 eV,MoSe₂为–0.07至–0.50 eV,MoTe₂为–0.30至–0.52 eV。最强结合出现在MoTe₂的双空位上,CH₄–表面距离为2.20 Å,电荷转移量为–0.026 e。所有情况下CH₄均表现为电子受体。

基于DFT的MoX₂ (S, Se, Te) 单层材料上甲烷吸附研究
图3:所有体系的吸附能、最短CH₄–MoX₂距离及电荷转移。

态密度分析

完美MoS₂带隙为1.94 eV,双空位下降至0.209 eV。DOS图谱显示CH₄态与MoS₂导带重叠极小,确认为物理吸附。MoSe₂带隙较小(完美1.68 eV,双空位0.024 eV),行为类似。MoTe₂变化最显著:Mo空位使材料金属化,双空位保留小带隙(0.316 eV)且在费米面附近显示最大的CH₄ DOS峰。

基于DFT的MoX₂ (S, Se, Te) 单层材料上甲烷吸附研究
图4:CH₄在MoS₂(完美、S空位、Mo空位、双空位)上的DOS。
基于DFT的MoX₂ (S, Se, Te) 单层材料上甲烷吸附研究
图5:CH₄在MoSe₂(完美、Se空位、Mo空位、双空位)上的DOS。
基于DFT的MoX₂ (S, Se, Te) 单层材料上甲烷吸附研究
图6:CH₄在MoTe₂(完美、Te空位、Mo空位、双空位)上的DOS。

结论

DFT计算揭示甲烷与MoX₂单层的相互作用较弱,属于物理吸附。缺陷工程——尤其是MoTe₂的双空位——大幅提升了吸附能、电荷转移并改变了电子结构。MV_D(MoTe₂)兼具适宜的带隙与强甲烷结合能力,是开发甲烷传感器的优选候选材料。

数据与材料可用性

所有数据均无限制开放获取。

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