亿迅智能制造网
工业4.0先进制造技术信息网站!
首页 | 制造技术 | 制造设备 | 工业物联网 | 工业材料 | 设备保养维修 | 工业编程 |
home  MfgRobots >> 亿迅智能制造网 >  >> Industrial materials >> 纳米材料

垂直磁化Pt/Co/Ta竞速道中自旋轨道扭矩驱动畴壁动力学与倾斜

摘要

本文研究碳中间层插入对Pt/Co/Ta竞速道中Dzyaloshinskii-Moriya相互作用(DMI)、电流驱动畴壁(DW)速度及倾斜的影响。磁光克尔显微镜揭示:DMI强度主要由Pt/Co界面决定,Pt/Co/Ta与Pt/Co/C/Ta堆叠相近。Pt/Co/Ta中畴壁在几MA/cm2电流密度下达数十m/s速度,而Pt/Co/C/Ta需约双倍电流达相当速度,凸显自旋轨道扭矩(SOT)效率与钉扎势垒的影响。相比场驱动畴壁运动(FIDWM),相同有效场下电流驱动速度大~103倍,表明焦耳热显著贡献。且观测到显著电流诱导畴壁倾斜(FIDWM中无),凸显厄尔斯特场作用。结果为高效基于SOT的竞速道存储器设计提供洞见。

研究背景

电流驱动磁畴壁运动(CIDWM)是下一代竞速道存储器关键机制。早期研究聚焦平面各向异性铁磁体(FMs),自旋转移扭矩(STT)驱动畴壁。后在垂直磁各向异性(PMA)系统演示CIDWM,但畴壁传播方向有时与STT预测矛盾。重金属(HM)/铁磁体双层中,自旋霍尔效应(SHE)和/或拉什巴效应产生的自旋轨道扭矩(SOTs)与界面DMI产生手性畴壁,沿电流方向运动。提升CIDWM效率需大自旋霍尔角(θSH)HM层与精细界面工程。多种策略——厚度调控、界面修饰、结晶度控制、氧掺杂——用于最大化θSH与有效SOT效率。HM/FM/HM三层结构中两个HM层贡献相反符号θSH,可进一步增强净扭矩。DMI强度也随结构修饰而变,影响畴壁速度与倾斜行为。近期模型预测DMI与钉扎图共同决定电流下畴壁倾斜程度。

前期工作考察了在Pt/Co/Ta堆叠中Co与Ta间插入薄碳(C)层的效应,观察到各向异性、翻转场、SOT有效场变化。本文延伸研究电流驱动畴壁运动与倾斜,量化C插入对微尺度Pt/Co/Ta竞速道中DMI、钉扎势、SOT效率的影响。

方法

两种膜堆叠——Ta(3 nm)/Pt(5 nm)/Co(0.6 nm)/Ta(5 nm)与Ta(3 nm)/Pt(5 nm)/Co(0.6 nm)/C(2 nm)/Ta(5 nm)——在室温下用直流磁控溅射(基压<4.0×10−5 Pa)沉积于康宁玻璃。底Ta作种子层,顶Ta暴露空气后形成~1.5 nm TaOx封盖层。光刻与Ar离子刻蚀制成8.5 µm与3.0 µm宽竞速道。同宽霍尔棒测量不同面向偏置场(Hx)下垂直场(Hz)依赖的反常霍尔电阻(RHall)。提取RHall-Hz回线位移(HSHE)量化SOT效率χ=HSHE/J。极化克尔显微镜室温监测施加场或电流脉冲下畴壁运动。

结果与讨论

利用手性奈尔畴壁模型,先从反常霍尔测量确定DMI与SOT参数。Pt/Co/Ta与Pt/Co/C/Ta有效DMI场(HDMI)分别~1370 Oe与~1055 Oe;饱和SOT效率χsat分别为10.0与8.3 Oe/(106 A/cm2)。C修饰堆叠χsat轻微降低,可能反映界面自旋翻转散射增加。计算DMI交换常数|D|分别为1.01±0.16与1.15±0.14 mJ/m2,表明Pt/Co界面在两堆叠中均主导DMI。因HDMI/HK<2/π,奈尔畴壁特性稳定,CIDWM实验证实。

场驱动畴壁速度在垂直磁脉冲下测量。两堆叠均呈蠕变依赖v∝exp[−(Uc/kBT)(Hdep/H)1/4]。钉扎场Hdep在C修饰堆叠中约为Pt/Co/Ta两倍,斜率参数s更大(37.4 vs 76.5 Oe1/4),确证更高钉扎势。畴图像显示Pt/Co/C/Ta畴壁形状更不规则,符合非均匀钉扎图景。

随即研究电流驱动畴壁运动。畴壁速度随电流密度增大,但Pt/Co/C/Ta达同等速度需约双倍电流密度,反映SOT效率降低与钉扎增强。值得注意的是,CIDWM速度比等效磁场驱动大~103倍,凸显焦耳热与可能的厄尔斯特场影响。大电流(±19.2 MA/cm2)下观测到速度降低、成核位点增加、畴壁倾斜改变,暗示热激活过程与重塑钉扎图景。

畴壁倾斜仅在电流驱动下出现。倾斜角ψ随电流密度近似线性增长,两堆叠一致,符合近期理论预测。场驱动实验无倾斜,暗示电流产生的厄尔斯特场起关键作用。计算厄尔斯特场(最大电流下Pt/Co/Ta~19.6 Oe,Pt/Co/C/Ta~37.4 Oe)与HSHE相当,且在竞速道特定位置同向作用,畴壁经历非均匀有效场,形成梯形畴结构。面向偏置场(Hx、Hy)改变畴壁手性及HSHE与HOersted相对强度,进一步影响倾斜与畴扩展。

结论

本文证实Pt/Co/Ta与Pt/Co/C/Ta竞速道中畴壁运动与倾斜深受SOT效率、钉扎势、焦耳热、厄尔斯特场影响。DMI强度(~1 mJ/m2)由Pt/Co界面主导,C插入适度降低SOT效率并增加钉扎。电流驱动畴壁速度在几MA/cm2达数十m/s,但显著厄尔斯特场会扭曲畴形状,可能限制实际竞速道存储器设计。这些洞见指导优化基于SOT的竞速道畴壁动力学工程。

缩略语

CIDWM
电流驱动畴壁运动
DMI
Dzyaloshinskii-Moriya相互作用
D-U
Down-to-up
DW
畴壁
FIDWM
场驱动畴壁运动
FMs
铁磁体
HM
重金属
PMA
垂直磁各向异性
SOT
自旋轨道扭矩
STT
自旋转移扭矩
U-D
Up-to-down

纳米材料

  1. 网络研讨会:智能运动控制如何提升智能制造柔性、生产力与可持续性
  2. Allegro QuietStep技术降低步进电机系统噪声与振动
  3. 运动控制集成安全:在不妥协的前提下提升生产力
  4. 物联网成功需要领域聚焦与开箱即用解决方案
  5. 运动、位置与接近传感器:核心差异与实用指南
  6. 激光二极管:运动感测与激光雷达技术的基石
  7. 连接控制系统:位置与运动传感器的可信通信接口
  8. 科学家成功合成并可视化环[18]碳
  9. 石墨烯基扬声器与耳机:超低功耗、高保真音质
  10. 纳米纤维与丝状纳米载体:推进精准药物递送
  11. 微型化可拉伸线性超级电容器实现高倍率性能
  12. Al₂O₃与SiO₂纳米颗粒联合超声波显著降低水的过冷度