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软硬结合板精密制造的8大关键工艺步骤

基材预处理:清洁与活化

软硬结合板起始材料:PI/聚酰亚胺基材(12.5-125μm) + 铜箔(12-70μm) + 胶系(胶系/无胶)。铜箔表面带防氧化层(钝化/抗变色),阻碍后续镀铜/层压粘接。标准三步预处理:

  1. 酸洗/酸雾:硫酸/盐酸稀溶液去除氧化层/污染物
  2. 微蚀:过硫酸钠/过硫酸铵溶液粗化铜面(粗糙度Ra 0.2-0.5μm),增强镀铜/树脂结合力
  3. 钝化/抗氧化涂层:有机抗氧化剂(如苯并三氮唑衍生物)薄层保护,防二次氧化不影响后续湿制程

电路图形转移

两大主流工艺:

化学蚀刻成型

喷淋式蚀刻机:酸性铜氯/碱性蚀刻液高压喷淋,上下同步蚀刻。关键控制:

高精度钻孔/激光微孔

通孔镀铜/电镀

覆盖层/阻焊保护

柔性区专用:

刚性区同标准PCB阻焊工艺。覆盖层开窗精度±50μm(LDI±25μm)。

成型切割

电测与可靠性验证

总结

软硬结合板制造融合刚性PCB湿制程 + 柔性材料特殊工艺(覆盖膜/激光微孔/动态弯曲验证)。八步环环相扣:基材预处理→图形转移→蚀刻→钻孔/激光→镀铜→覆盖层→成型→全维验证。WellPCB软硬结合产线:LDI全曝光、激光微盲孔、脉冲镀铜、真空压合、激光成型、自动化电测/微切/可靠性实验室,覆盖1-20层、任意层互联、HDI、高频材料、医疗/汽车/航天认证。发送规格书获取DFM审核与报价。

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