单滴自组装制备超精细DAST纳米线 实现卓越二阶非线性光学性质
摘要
本研究提出单滴自组装法,成功制备4-N,N-二甲氨基-4'-N'-甲基-茋鎓对甲苯磺酸盐(DAST)单晶纳米线(NWs)。高分辨原子力显微镜测得DAST NWs表观粗糙度<100 pm,显示超精细质量。DAST NWs展现优异非线性光学性质,包括双光子激发荧光(TPEF)和二次谐波产生(SHG),可用于低成本、低功耗宽带波长转换器件。该方法为有机纳米线制备开辟新途径。
引言
二阶有机非线性光学(NLO)材料具超快电光响应、极大带宽和NLO系数,在电/光信号转换、光开关、相控阵雷达、模/数转换、太赫兹信号产生、数字信号处理等领域被深入研究。有机离子DAST晶体因电光系数γ₁₁=55±80 pm/V(1315 nm)、高NLO极化率χ⁽²⁾(-2ω,ω,ω)=580±30 pm/V(1535 nm)、低介电常数(5.2, 10³–10⁵ kHz)被公认为基准有机NLO晶体,研究热烈。然而,DAST晶体因质量不足及传统“自上而下”法难制备光波导,应用受限。自组装作为自下而上技术,成为制备微/纳米一维结构的强大方法,有望生产微型集成电子、光电、光子器件。有机材料自组装驱动力源于配位键、芳香π-π堆积、氢键、范德华力、静电相互作用等。虽有多种有机材料合成SHG活性一维晶体纳米结构,但其二阶极化率仍远低于大偶极矩有机NLO晶体。本研究开发环保单滴自组装法制备DAST NWs,通过基底支持快速蒸发结晶(SSREC)和饱和蒸汽培养分离晶种制备与生长过程,易得超精细单晶DAST NWs且具良好NLO性质。
方法
DAST粉末(大一纯化学)、甲醇(99.9%,超干,分子筛,水≤30 ppm)、表面活性剂(十六烷基三甲基溴化铵,CTAB)直接使用无需纯化。
制备
30 mg DAST粉末和10 mg表面活性剂溶于5 mL甲醇。取100 µL此DAST-CTAB甲醇溶液稀释于10 mL甲醇(DAST浓度约0.146 mM),搅拌0.5 h得均匀溶液(详见附件1:Figure S1)。
表征
DAST NW形貌用光学显微镜(Imager.A2m, Zeiss)、BTEM(Tecnai G2 SpiritBiotwin)、SEM(Nanolab600i, Helios, Quanta 200, Fei)、AFM(MultiMode8, Bruker)研究。UV-Vis谱用光纤光谱仪(Nova, Idea Optics)测得。晶体结构经XRD(D/Max 2550 V, Rigaku)考察。双光子激发荧光(TPEF)用1064 nm CW激光(MIL-III-1064-1W, CNI)激发,光学显微镜(DS-RI2, Nikon)成像,光纤光谱仪测发射谱。二次谐波产生(SHG)偏振依赖用自制SHG显微镜测量。1250 nm飞秒激光(Insight DeepSee, Spectra-Physics),重复率80 MHz,脉宽130 fs为光源(详见附件1:Figure S1)。
结果与讨论
单滴自组装法示意图见图1a。首先亲水基底置热板加热至80 °C。滴加100 µL 0.146 mM DAST-CTAB甲醇溶液于加热基底,持续加热20 s。甲醇铺展蒸发,DAST纳米/微晶体(NC/MCs,橙色)快速沉积于基底(步骤1,Fig. 1a)。步骤2:基底置培养皿,封约0.1 mL甲醇溶剂进行湿培养。室温约3 h培养后,得DAST NWs(绿色,步骤3)。DAST晶体形貌演变见图1b-f。SSREC后晶体呈微片状,密度较高,无纳米线(Fig. 1b)。饱和甲醇蒸汽压下室温培养40 min,短DAST棒状晶体出现(Fig. 1c),片状晶体比Fig. 1b小。2.5 h后出现较长DAST晶体线(Fig. 1e),宽度均匀,长度数百µm甚至>1 mm。Fig. 1f为偏振镜旋转90°下显微镜图像,整个倾斜线从最大各向异性双折射(最亮)变为最小(熄灭),暗示制备DAST线单晶结构高度均匀。大颗粒DAST晶体消失,出现小晶点,且晶点密度在DAST线附近明显低于远处。
推测DAST线形成过程:SSREC后小DAST晶体沉积基底。置入甲醇气氛中,晶体吸收甲醇部分溶解,形成被DAST饱和甲醇溶液包围的NC/MCs。自组装驱动力可能源于NC/MCs巨大偶极矩。例如直径0.35 µm的MC偶极矩可达~4.5×10⁴ D。甲醇溶液作润滑剂促进DAST NC/MCs运动。静电相互作用和甲醇润滑下,DAST NC/MCs自组装生成DAST NWs。证据见图1d未完成DAST NW的BTEM图像,大量NCs聚集于NW中。随NW生长,通过毛细作用持续吸收附近DAST溶液,故Fig. 1d,e显示线附近残留晶点密度较低。
DAST NWs XRD谱见图2a。参考体相DAST晶胞参数(单斜Cc空间群,点群m,a=10.365 Å, b=11.322 Å, α=β=90°, γ=92.24°),10°、20°、30°附近衍射峰分别对应[002]、[004]、[006]晶面,即DAST NWs在基底上沿[001]取向生长,a-、b-轴平行薄膜平面。SEM进一步研究形貌,[001]视角SEM图见图2b。基于体相DAST晶体生长特征,可识别[111]、[-111]、[1-11]、[110]端面(见Fig. 2)。单晶DAST NW呈带状,典型宽度1.5±0.5 µm,厚度0.8±0.4 µm。按晶体取向,DAST分子排列如Fig. 2c(为清晰省略对甲苯磺酸阴离子)。体相DAST晶体直接从饱和溶液生长,a轴([100]方向)生长最快;但自组装下[110]方向优先。故NW制备机制不同。推测NW形成始于DAST NC/MC静电力自组装。四分子模型中,DAST晶格a-、b-、c-轴偶极矩分别为158.2 D、141.2 D、121.0 D。c轴生长受实验构型限制,NW只能沿a-、b-轴偶极矩矢量和方向生长。因a-、b-轴偶极矩相近,[110]成为首选NW生长方向。
为考察DAST NWs内部质量,用电子束切割NW,横截面见图2d。NW上白点为沉积银纳米颗粒以增加导电性。切割横截面粗糙度与原生长DAST晶体相似,此尺度未检测到缺陷。进一步用高分辨AFM直接获取表面信息,避免金属银纳米颗粒干扰。Fig. 2e显示NW清晰带状构型,[001]面为平坦顶面,与SEM一致。AFM放大顶面1000×1000 nm²区域([001]面),见图2f。DAST NW平均粗糙度~85 pm,甚至小于SiO₂衬底上石墨烯单层,实现超平坦DAST NW晶体。低损耗光波导要求表面粗糙度<10 nm,显然我方DAST NWs质量远超要求。
DAST NWs UV-Vis吸收谱与体相晶体、NC、溶液态对比见图3a。因独特1D构象,NW吸收谱(黑线)明显不同。甲醇溶液中~476 nm吸收峰源于DAST阳离子π共轭体系。结晶时,阳离子π-π共轭体系电子跃迁致吸收带向蓝移和红移双向扩展。红移源于色原阳离子沿晶体a轴头尾堆积的J-聚集,蓝移源于面面堆积的H-聚集。NCs仅在蓝红方向轻微扩展(红线,吸收峰~512 nm),反映两聚集方向尺寸限制。体相晶体J-、H-聚集长度显著扩展,吸收带最宽,350–750 nm,吸收峰~550 nm(蓝线)。相反,DAST NWs因有序1D构象,吸收带~380–600 nm(黑线),红向轻微扩展,蓝向显著扩展,即NW生长不沿a轴(J-聚集方向),与形貌结果一致。1D结构大幅增强H-聚集,致蓝侧吸收相似。DAST NWs荧光谱亦异于体相晶体。体相晶体和NWs荧光谱见图3a粉红线和绿线。缩短色原J-聚集长度致荧光谱蓝移,DAST NWs光谱比体相更向蓝移。短波切断波长蓝移~30 nm。~730 nm新峰可能源于DAST NWs线性结构的法布里-珀罗共振。Fig. 3b荧光显微镜图像证实这些差异。
微米级DAST晶体(左上)蓝光照射呈橙色。同条件下DAST NW发黄绿光。NW末端明显比主体亮,暗示NW良好限制光,即荧光被波导结构限制增强。荧光极强极性,Fig. 3b底部偏振显微镜图像显示单NW不同旋转角下荧光随角度变化,说明DAST NW具强偏振特性。
通过自制锥形光纤将1064 nm CW激光耦合入DAST NW观察传播特性。泵浦光采用对接耦合技术,装置见图3c。俯视传播见图3d。因DAST NW超精细晶质,侧壁无明显散射。难以通过NW切割改变传播距离评估传播损耗。1064 nm CW激光照射下NW仍发荧光,荧光图像见图3e,发黄绿光,与蓝光激发相似。易确认1064 nm激光传播路径,因NW吸收激光发荧光。激光光和荧光光均良好限制在NW结构中,证据是NW末端比侧壁亮。荧光强度随激光输入增加(Fig. 3f)。双光子激发荧光(TPEF)强度(I_TPEF)对激发强度(I_Excitation)依赖经对数分析,Fig. 3f插图lg I_Excitation vs lg I_TPEF拟合斜率k=1.84,接近2,证实该测量范围内TPEF呈二次方依赖激发强度。值得注意的是,TPEF信号从垂直于光传播方向的NW顶部收集。沿传播方向谱可能因波导共振显著不同。本装置未观测到SHG信号,原因:激光从NW末端入射;良好限制波导结构顶部收集SHG信号弱;原生长DAST NW相位失配;强TPEF掩盖SHG;SHG信号落在晶体吸收带内。
通过SHG显微镜进一步考察DAST NW晶体特征,装置见图4a。收集入射激光偏振角函数的SHG响应。Fig. 4a插图典型极坐标图,红点为实验数据。平行和垂直SHG分量I_x、I_y可写为:I_x²ω = A cos4α + B cos2α + C (1);I_y²ω = K/2 (-cos4α + 1) (2)。α为激光偏振与NW长轴夹角;A、B、C为材料相关参数;K为合并各参数常数。Fig. 4a插图实线为公式(1)(2)理论拟合。观测SHG响应呈双叶模式,指示SHG各向异性源于DAST晶体内在取向。因SHG信号从NW侧向发射,此装置难评估NW二阶极化率张量。
170×170 µm视场DAST NW SHG图像见图4b,颜色代表晶体取向角。DAST NWs和MCs分布于图示区域,均发射SHG信号,表明两者均具SHG活性晶体结构和相似NLO性质。NWs SHG信号相对均匀,指示NWs高质量。
结论
本研究演示单滴自组装法制备DAST NWs。DAST NWs具SHG活性单晶结构,极强TPEF。观测到DAST NWs为单晶、少缺陷、良好切面、超精细表面粗糙度85 pm,极利于集成器件制备。且方法高效,材料需求可降至微克级(制备过程仅需6 µg),极其环保。
纳米材料