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高功率 DBR 量子级联激光器中的异常短波长模式跳变

摘要

我们报道分布式布拉格反射器(DBR)量子级联激光器(QCL)在 7.6 µm 附近发射时出现的意外短波长模式跳变。双段器件——增益段和未泵浦布拉格段——室温下连续波(CW)输出功率 >0.6 W。与温度或注电流升高时常规长波长漂移相反,激光模式偶尔跳变至较短波长。模态分析显示,温度诱导的折射率变化使纵模移动速度快于布拉格峰,导致观测到的跃迁。

引言

量子级联激光器通过导带内亚能带跃迁工作,区别于传统半导体激光器,实现中远红外发射。其宽光谱覆盖使其成为气体传感、高分辨光谱和工业监测不可或缺的工具。然而,许多应用要求窄线宽和高输出功率。分布式反馈(DFB)和外腔(EC)QCL 典型提供单模运行但限于 ~100 mW 输出和窄调谐范围。DBR QCL 为高功率单模发射提供紧凑平台,但其详细光谱行为鲜有深入探索。本文展示 DBR QCL 并深入研究异常模式跳变。

方法

DBR 光栅通过双光束全息干涉光刻定义。器件包含增益段(LG)、DBR 段(LDBR)和电流隔离槽。QCL 核心在 n 型 InP 上经固态源 MBE 生长,采用 50 个应变补偿 In0.58Ga0.42As/In0.47Al0.53As 量子阱(厚度序列见原文)。上限制层上沉积 100 nm SiO₂;DBR 区蚀刻深度 ~130 nm,后去除 SiO₂。顶部波导经 MOVPE 重生长,形成 3 µm 上 InP 包层、0.15 µm 渐变掺杂 InP 层和 0.85 µm 高掺杂 InP 接触层。晶片加工成双通道脊波导(核心宽度 ≈10 µm),半绝缘 InP:Fe 提供热和电隔离。200 µm 电流隔离槽(深度 1.1 µm)分隔增益和 DBR 段。SiO₂ 绝缘后沉积 Ti/Au 接触并电镀 5 µm Au 散热。器件(长 6 mm)劈开为 4.3 mm 增益段、1.5 mm DBR 段和 0.2 mm 隔离区,外延面朝下焊接在金刚石散热器和铜座上。

DBR QCL 结构示意:增益段 LG、DBR 段 LDBR 和隔离间隙

结果与讨论

发射光谱用傅里叶变换红外光谱仪记录(分辨率 0.125 cm⁻¹)。P-I-V 特性用校准热电堆探测器测量。激光安装在配备热敏电阻和热电制冷器的支架上控制副安装温度。图 2a 显示在 1.005 Ith 下,散热器温度从 20 °C 至 70 °C(2 °C 步进)的 CW 光谱。图 2b 插图为 24 °C 对数坐标光谱,侧模抑制比(SMSR)≈25 dB。不同于常规 DFB QCL 随温度或电流线性向长波长漂移,我们的 DBR 器件随温度升高呈现异常短波长模式跳变。为解释此现象,我们分析模式选择机制。图 3a 显示实测晶片增益曲线和计算布拉格反射谱(1.5 mm 光栅反射率 98%)。图 3b 概念图展示增益、布拉格峰和纵模随温度移动。增益峰以 -0.581 cm⁻¹ K⁻¹ 移动,布拉格峰以 -0.128 cm⁻¹ K⁻¹ 移动。因布拉格峰保持在增益短波长侧,纵模随折射率变化移动速度最终超越布拉格峰,迫使模式跳变至下一个可用纵模。这解释了观测到的异常跳变。纵模间距按有效腔长计算:Leff = (1/2κ) tanh(κLDBR),κ = (1/Λ)(Δn̄/n̄)。物理 DBR 长 1.5 mm 对应 Leff ≈0.291 mm,理论间距 0.328 cm⁻¹,与实验观测的 0.12 cm⁻¹ 间隔吻合。图 5 展示随注电流增加的同一现象。首次异常跳变跨越 0.904 cm⁻¹(跨三模),随后 0.301 cm⁻¹ 跳变。P-I 曲线在每次跳变处显示明显间断,标准 DFB QCL 无此行为。图 6 对比 DBR 激光器与 4 mm 法布里-珀罗(FP)激光器。FP 达 987 mW,DBR 在 20 °C 达 656 mW、70 °C 达 235 mW,为长波红外 QCL 最高单模功率。模拟光场分布(图 6b)显示 DBR 在增益段维持高强度而在 DBR 段快速衰减,允许长腔运行而不过耦合——优于 DFB 激光器。

DBR QCL 发射光谱 (a) 和波数-温度关系 (b)。插图:24 °C 对数坐标光谱

实测晶片增益曲线与计算布拉格反射 (a);模式选择示意 (b)

有效 DBR 长度 vs 物理长度 (a);有效长度 vs 物理长度 (b)

发射光谱 vs 电流 (a);波数-温度 (b) 和 P-I 曲线 (b)

功率-电流-电压曲线:DBR (红) vs FP (黑) (a);DBR、FP、DBF 模拟场分布 (b)

结论

我们演示了室温 CW 输出 >0.6 W 的高功率 DBR QCL。对异常短波长模式跳变的详细分析揭示了 DBR 器件模式选择动力学。DBR 架构实现长腔单模运行且具优越功率提取,定位为高功率中红外激光应用的有前景平台。

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