二维 Al 和 P 掺杂 WS2 对 NO、NO2 和 SO2 的感测行为:Ab Initio 研究
摘要
二维过渡金属二硫属化物 (2D TMD),例如 WS2,被认为具有高性能气体传感器的潜力。遗憾的是,气体与作为敏感元件的原始二维 WS2 之间的相互作用太弱,以致于传感器响应难以检测。在此,评估了 Al 和 P 掺杂的 WS2 对 NO、NO2 和 SO2 的感测能力。特别是,我们考虑了对目标气体和掺杂剂浓度的选择性。构建吸附系统的分子模型,并利用密度泛函理论(DFT)从结合能、能带结构和态密度(DOS)的角度探索这些气体的吸附行为。结果表明,掺杂原子可以增加气体分子与衬底之间的吸附强度。此外,P 掺杂的 WS2 对 NO 和 NO2 的敏感性几乎不受 CO2 或 H2O 的影响。掺铝的 WS2 对 NO2 和 SO2 的敏感性也很难受到 CO2 或 H2O 的影响。对于 NO 检测,掺杂浓度为 7.4% 的 WS2 比掺杂浓度为 3.7% 的 WS2 具有更好的灵敏度。而对于 SO2,结果恰恰相反。该工作为在二维材料中选择合适的掺杂剂(浓度)以检测有毒气体提供了全面的参考。
介绍
一氧化氮和二氧化硫广泛用于工业生产。例如,一氧化氮 (NO) 可用作半导体行业掺杂工艺的氮源,二氧化硫 (SO2) 可用于防止葡萄变质 [1]。然而,这些气体不仅有害,而且可能导致严重的环境问题,如酸雨或光化学烟雾 [2, 3]。在工业应用中,有必要监测这些气体的泄漏情况。在以往的研究中,金属氧化物气体传感器得到了广泛的研究,但它们存在不稳定和工作条件有限的缺点[4]。因此,寻找新的材料来检测这些气体具有相当重要的意义[5]。为了有效地检测气体分子,材料应具有较大的表面积比和足够的吸附力来吸附气体分子[6, 7]。石墨烯和稀有气体传感特性的发现 [8] 促使研究人员将注意力转向二维材料 [9, 10]。
在二维材料中,过渡金属二硫化物 (TMD) 因其稳定的半导体特性和适当的载流子迁移率而在气敏领域引起了很多关注 [11,12,13]。特别是作为一种典型的 TMD,WS2 具有各种独特的传感材料特性 [14, 15],例如优异的热稳定性、可调谐的能带结构 [16, 17] 和低成本。然而,原始的二维 WS2 作为敏感元件存在一些缺点,例如对目标气体的吸附较弱,不能有效地捕获气体分子 [18]。在这种情况下,掺杂被广泛用于二维材料,以调整材料与气体分子之间的表面性质和结合力,提高对气体的吸附和传感能力[19, 20]。当然,不同的掺杂物对传感性能有不同的影响。因此,掺杂的敏感基板必须找到合适的杂质来提高其传感性能。例如,Pd 掺杂的 WS2 已经显示出它们在气体传感方面优于原始对应物的性能 [6, 21]。不幸的是,以前关于掺杂 WS2 作为敏感元素的大多数研究只关注气体分子和单层薄膜之间的结合强度和电荷转移。对气体的吸附选择性和掺杂浓度的影响常常被忽视。在这项工作中,我们不仅全面探讨了结合强度和电荷转移,还全面探讨了对目标气体的吸附选择性和掺杂浓度的影响。
这里,考虑到Al和P原子具有接近的共价半径和与S原子相似的电子结构,它们更容易取代S原子并形成稳定的共价结构。许多先前的研究已经研究了具有取代掺杂的 S 原子的材料 [22,23,24,25]。因此,这项工作在 DFT 的帮助下探索了 Al 和 P 掺杂的 WS2 的传感性能。在结合能、能带结构和态密度方面比较了掺杂系统与未掺杂系统的传感特性。证明掺杂有Al或P原子的WS2在检测这些气体方面比原始WS2具有明显的优势。除了 NO、NO2 和 SO2,我们还考虑了 CO2 和 H2O 作为干扰气体,以检查掺杂衬底对目标气体的选择性。考虑了两种掺杂浓度,3.7% 和 7.4%,以估计其对气体敏感性的影响。这项工作为在二维材料中选择合适的掺杂剂(浓度)以检测有害气体提供了全面的见解。
方法
在这项工作中,所有第一性原理计算均基于 DFT [26, 27]。选择具有 PWC 函数的局部密度近似 (LDA) 来解决电子交换和相关性问题。为了减轻计算负担,内核(DFT 半核赝势)被单个有效势所取代。选择了双数值轨道基组和轨道极化函数 (DNP)。全局轨道截止半径设置为 4.9 Å 以确保足够的精度。收敛测试后,Monkhorst-Pack k 点设置为 4 × 4 × 1,真空层为 13.4 Å,以避免相邻单元之间的相互作用。几何能量收敛精度为1.0×10 −5 Hartree,而最大位移为 0.005 Å,最大力为 0.002 Hartree/Å。
建立了一个包含 9 W 原子和 18 S 原子的 3 × 3 × 1 超胞,如图 1a 所示。对于掺杂 WS2 的模型,S 原子被 P 或 Al 原子替换 [28],如图 1b-d 所示。然后,给出了几何优化。之后,将气体分子设置在WS2平面上方以建立气体吸附模型。选择了三个吸附气体分子的位点。它们是 S 或掺杂原子 (I) 的顶部,掺杂原子与 W 或 S 原子之间的键的中点顶部 (II),以及六边形结构的中心 (III),如图所示图 1a-c。在对每个吸附系统进行几何优化后,找到了气体吸附最稳定的几何结构。结合能 (E 绑定 )可以反映材料与吸附气体分子之间的相互作用,由以下函数计算:
$$ {E}_{bind}={E}_{tot}-{E}_m-{E}_{gas} $$ (1)结果与讨论
吸附位置如图 1a-c 所示,分别对应于原始、Al 掺杂和 P 掺杂的 WS2。在图 1 中,d-f N-O、N=O 和 S=O 的键长分别为 1.16 Å、1.21 Å 和 1.46 Å。 W-S、Al-W 和 P-W 键的键长分别约为 2.43 Å、2.86 Å 和 2.45 Å。几何优化后,每个吸附质的能量有利位点已用于后续讨论。表 1 显示了 3.7% P 和 Al 掺杂的 WS2 系统在能量有利位点的结合能。纯 WS2 系统的结合能见表 S1。然后,根据结合能的结果,气体分子与纯 WS2 之间的相互作用非常弱,以致基板材料难以稳定吸附气体分子。 NO-原始WS2系统的结合能甚至是正的。然而,掺杂剂的引入可以显着增强气体与 WS2 之间的吸附强度,特别是对于掺杂了 Al 原子的 WS2。在所有掺杂情况中,吸附强度最小,而 SO2 吸附在 P-WS2 上。此外,除了 Al 和 P 之外,还考虑了与 S 处于同一时期或家族的其他元素,如 O、Si、Cl 或 Se。 Fe 掺杂的 W 取代 WS2 的情况如图 S1 所示,而具有这些掺杂剂的 WS2 系统要么稳定性差(高 E fm) 或与气体分子的弱相互作用。考虑到这一点,这些掺杂剂没有参与到后续的研究中。 NO、NO2和SO2分子吸附在掺杂WS2上的能量有利位点(最低负结合能)分别如图S2、S3和S4所示。
<图>图>原始和 Al 和 P 掺杂的单层 WS2 的能带结构如图 2 所示。投影态密度(PDOS)结果如图 S5 所示。单层 2H WS2 是一种在 Γ 点具有直接带隙的半导体。对于掺杂有 Al 原子的 WS2,杂质将界面态引入单层 2H WS2 的带隙区域。更重要的是,金属原子的存在形成了肖特基势垒,费米能级固定在半导体的表面区域。钉扎位置在第一个半导体的费米能级的 0.2 eV 范围内 [5]。金属特性是由金属掺杂剂带来的 [30]。同时,P原子引入了与WS2的导带和价带混合的能带。气体吸附后掺杂 WS2 的能带结构如图 S6 所示。因此,在掺杂Al的WS2上的NO、掺杂P的WS2上的NO和掺杂Al的WS2上的SO2的情况下,气体分子被吸附后材料的带隙宽度发生了明显的变化。先前的研究表明,带隙变窄意味着更低的动力学稳定性、更高的化学活性以及从价带到导带的更自然的电子跃迁 [31, 32]。因此,在气体吸附后,掺杂材料的明显带隙变化使其成为检测气体分子存在的敏感衬底成为可能。
结论
在这项工作中,使用第一性原理,进行了理论计算,以评估 Al 和 P 掺杂剂及其掺杂浓度对 WS2 对 NO、NO2 和 SO2 分子的敏感性能的影响。该工作还探讨了在 CO2 和 H2O 气体存在下对目标气体的选择性。对于气体吸附后的能带结构,带隙的变化和费米能级附近的低能级意味着掺杂的WS2有很大的潜力用作对NO或SO2的电阻型气体传感器。根据结合能结果,Al 和 P 掺杂的 WS2 对气体分子的负结合能低于原始 WS2,表明由于杂质的存在,吸附强度提高。 DOS 表明杂质可以产生更多的活化峰,并显着刺激气体和衬底之间的轨道混合,以提高衬底材料的灵敏度。因此,气体分子与掺杂的 WS2 材料之间有更多的电荷转移和更强的结合相互作用。此外,P掺杂的WS2对NO和NO2的敏感性几乎不受CO2和H2O的影响,而对SO2的敏感性在CO2或H2O的存在下会发生变化。 Al掺杂的WS2对NO的敏感性易受H2O的影响而不易受CO2的影响。然而,Al 掺杂的 WS2 对 NO2 和 SO2 的敏感性很难受到 CO2 和 H2O 的影响。对于 NO 检测,掺杂浓度为 7.4% 的 Al 和 P 掺杂的 WS2 比掺杂浓度为 3.7% 的 WS2 具有更好的灵敏度。而对于 SO2 传感,掺杂浓度为 7.4% 的 Al 掺杂 WS2 比掺杂浓度为 3.7% 的 WS2 具有更明显的减弱响应性能。掺杂浓度对 P 掺杂 WS2 传感性能的影响小于 Al 掺杂 WS2。因此,我们的综合计算可为掺杂二维材料的有毒气体传感提供有价值的参考。
数据和材料的可用性
所有数据完全可用,不受限制。
缩写
- 二维:
-
二维
- TMD:
-
过渡金属二硫化物
- DFT:
-
密度泛函理论
- LDA:
-
局部密度近似
- DNP:
-
双数值加极化
- DOS:
-
态密度
- PDOS:
-
偏态密度
- LUMO:
-
最低未占分子轨道
- HOMO:
-
最高占据分子轨道
纳米材料
- 走向 TiO2 纳米流体——第 1 部分:制备和性质
- 迈向 TiO2 纳米流体——第 2 部分:应用和挑战
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