通过尺寸、修饰、缺陷和掺杂设计和调整石墨烯功函数:第一性原理理论研究
摘要
在这项工作中,使用第一性原理方法设计和评估了用作电子器件的石墨烯的功函数 (WF)。考虑了石墨烯的不同状态,例如表面改性、掺杂和缺陷。首先,WF 强烈依赖于原始石墨烯的宽度。较大的宽度导致较小的 WF。此外,羟基的影响、缺陷以及羟基和缺陷的位置也值得关注。羟基改性的石墨烯的 WF 大于原始石墨烯的 WF。此外,WF 值随着羟基数量的增加而增加。羟基的位置和偏离中心的缺陷对 WF 的影响有限,而中心位置的影响很大。最后,选择 B、N、Al、Si 和 P 作为掺杂元素。掺杂N和P原子的n型石墨烯导致WF大幅下降,而掺杂B和Al原子的p型石墨烯导致WF大幅增加。然而,在石墨烯中掺杂 Al 是困难的,而 B 和 N 的掺杂则更容易。这些发现将为石墨烯基器件的生产提供有力支持。
背景
作为一种具有多种优异性能的材料,石墨烯 [1,2,3] 已广泛应用于不同领域,如传感器、场效应晶体管 (FET)、光伏器件电极、肖特基二极管、真空管、和发光二极管的金属-半导体结,并已成为许多材料的替代品 [4,5,6,7]。石墨烯可以解决场效应管的小型化问题和光伏器件的成本,同时保持良好的稳定性和电性能。然而,石墨烯功函数 (WF) 对这些电子设备的性能具有至关重要的影响。因此,了解和控制石墨烯的 WF 对于基于石墨烯的电子设备具有重要意义。通常,FET 器件的性能可以由源/漏电极的 WF 决定 [8,9,10]。由于金属-半导体接触后材料的WF差异,界面中将存在电位差,这对肖特基或欧姆接触有直接影响[10]。鉴于两种不同材料的能带排列由其各自的WFs决定,控制石墨烯WF是减少接触势垒的关键[11]。
通过实验测得的石墨烯 WF 约为 4.2 到 4.8 eV [12, 13]。费米能级的变化会导致 WF 的变化。许多实验和理论分析表明,石墨烯的费米能级可以通过芳香族和气体分子的有意掺杂 [14, 15] 或紫外线照射 [16]、表面功能化 [17, 18]、缺陷 [19] 和静电来调节。门控 [20]。例如,袁等人。发现石墨烯的 WF 通过吸附 Na 和 Cl 发生显着变化 [21]。张等人。表明通过用碱金属阳离子覆盖石墨烯,WF 可以在 4.0-4.5 eV 的范围内微调 [22]。 Leenaerts 等人。了解了石墨烯的内在特性。结果表明,少层石墨烯的 WF 几乎与层数无关,但可以通过偶极层进行调制 [23]。沃洛丁等人。和彭等人。使用机械方法改变石墨烯WF [24]。他们都发现WF会随着应变而增加。余等人。使用电场效应来调整石墨烯的 WF,并证明在环境和干燥氮气条件下,WF 可以在 4.5-4.8 eV(单层石墨烯)和 4.65-4.75 eV(双层石墨烯)范围内调整 [25]。石等人。发现可以通过控制浸入时间来调节石墨烯薄膜的表面电位。对于小于 20 秒的掺杂时间,表面电位单调增加到约 0.5 V [13]。此外,发现辐照是控制掺杂浓度的有效方法。斯特拉基斯等人。通过调整激光曝光时间,控制掺杂和反应水平,将 GO-Cl 层的 WF 从 4.9 eV 调整到最大值 5.23 eV [26]。然而,康等人。通过直接表面功能化调节氧化石墨烯的WF[27]。
虽然之前的许多研究已经报道了控制石墨烯WF的方法,但研究结果还不够全面。例如,关于不同手性石墨烯对 WF 的尺寸效应的比较研究并没有提供足够的信息。此外,石墨烯的修饰和缺陷对 WF 的影响仍然不是很清楚。虽然研究了掺杂对石墨烯WF的影响,但没有提到相应的掺杂原子形成能。例如,在 Shi 的实验中,将石墨烯浸入 AuCl3 溶液中以调节 WF [13];然而,WF 与掺杂浓度之间的关系仍不清楚。此外,必须指出的是,官能团的位置和缺陷对石墨烯 WF 的影响尚未见报道。鉴于 WF 的控制方法成本高昂,必须研究不同方法的内在特性。
在本文中,通过第一性原理理论对WF的控制方法进行了综合研究。首先报道并强调了掺杂的影响以及羟基和缺陷的位置。首先,考虑了具有不同手性(锯齿形和扶手椅)的石墨烯,并研究了 WF 对石墨烯宽度的依赖性。其次,计算了具有表面改性和缺陷的石墨烯的 WF。首先比较了羟基的不同分布,然后是不同位置缺陷的影响。第三,选择B、N、Al、Si和P作为掺杂元素,研究WFs的掺杂效果。
方法
所有计算均在基于密度泛函理论(DFT)[28]的 CASTEP 代码中进行,这是一种针对多电子系统电子结构的量子力学研究。 DFT 已广泛用于物理和化学性质的研究,包括石墨烯和碳纳米管的纳米材料 [29, 30]。 DFT还可以准确地模拟数十到数百个原子系统,将原子描述为量子粒子,即原子核和电子的集合[31]。
广义梯度近似(GGA)和局部密度近似(LDA)是量子力学计算中常用的交换相关函数。它们在方程式中描述。 (1)和(2):
$$ {E}_{\mathrm{xc}}\ \left[\rho \right]=\int {f}_{\mathrm{xc}}\left[\ \rho \left(\boldsymbol{r} \right),|\Delta \rho \left(\boldsymbol{r}\right)\ |\right]d\boldsymbol{r} $$ (1) $$ {E}_{\mathrm{xc}}\ \left[\rho \right]=\int d\boldsymbol{r}\ \rho \left(\boldsymbol{r}\right)\ {\varepsilon}_{\mathrm{xc}}\ \left[\rho \left(\boldsymbol{r}\right)\right] $$ (2)其中 R 我 和 r 分别是原子核和电子的坐标。不均匀电子气中的交换相关能被E代替 xc[ρ ] 在均匀电子气中。 GGA 和 LDA 都已用于二维材料的计算。勒贝格等人。发现使用 LDA 或 GGA 获得的二维材料的能带结构非常相似 [32]。同时Kharche和Gui的研究中使用GGA计算石墨烯的电性能,保证了精度[33, 34]。
至于 WF,之前基于扫描探针的研究表明,WF 的测量值为 4.6 eV,例如石墨 [35]。一般来说,4.6-4.9 eV 范围内的 WF 是可以接受的 [36, 37]。此外,LDA [38] 和 GGA [39] 分别预测 WF 为 4.48 和 4.49 eV。与实验数据相比,理论计算的 WF 略小。 GGA加入了非局部密度梯度,其非局部性更适合处理密度的不均匀性,而LDA在堆叠系统中效果更好。因此,在计算石墨烯的 WF 和电性能时,本理论研究选择了 GGA。此外,在此计算中,真空距离设置为 15 埃,这样板两侧之间的静电相互作用可以忽略不计,静电势达到其渐近值。超软赝势用于描述电子和离子之间的相互作用。截止能量为 340 eV,使用 9 × 9 × 1 Monkhorst–Pack k 点网格 [40] 对布里渊区进行采样,Methfessel–Paxton [41] 涂抹在 0.05 eV。自洽场能收敛准则为1.0 × 10 -6 eV,最大力为 0.03 eV/Å。
结果与讨论
不同尺寸之字形和扶手椅石墨烯的WF
一般而言,WF 可以定义为将电子从体中提取到无穷大所需的最小能量 [42]。在量子力学计算中,WF 被定义为真空能级 (V 0) 和费米能级 (E f),如方程式所示。 (3):
$$ \mathrm{WF}={V}_0-{E}_{\mathrm{f}} $$ (3)晶体表面的 CASTEP 计算是在具有真空区域的平板上进行的。实际上,无限阵列的 2D 周期性材料板被宽真空间距隔开。 CASTEP 为此类系统产生费米能量和静电势的空间分布 [43]。不同宽度的石墨烯具有不同的特性。选择锯齿形和扶手椅具有不同手性的模型来阐明宽度对 WF 的影响。在此计算中,计算了具有 1 到 7 个单元格范围的样品。图 1 说明了锯齿形和扶手椅石墨烯的尺寸定义。锯齿形和扶手椅石墨烯的晶体取向不同;锯齿形石墨烯的晶体结构是菱形的,而扶手椅石墨烯的晶体结构是双斜的,如图 1a、b 所示。水平方向定义石墨烯的宽度,垂直方向定义石墨烯的长度。此外,一个晶胞被设置为一个碳环。
结论
本研究研究了石墨烯在不同状态下的 WF,如表面改性、掺杂和缺陷。基本上,随着石墨烯宽度的增加,WF 会减少。对于羟基改性,当羟基数目增加时,WF 较大。此外,当羟基分布密集时,WF 也增加。该缺陷会降低石墨烯 WF,这与位置无关。 B和Al的p型掺杂会导致WF增加;然而,增加的量是由掺杂剂决定的。 N和P的n型掺杂大大降低了WF。这些发现将为控制石墨烯和进一步改进石墨烯基器件的设计提供理论支持。
纳米材料