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原子力显微镜研究薄聚苯乙烯薄膜的玻璃化转变与粘附行为

摘要

薄聚合物薄膜的弛豫行为对温度和薄膜厚度高度敏感,传统块体测量手段无法在纳米尺度解析这些动态过程。本研究利用原子力显微镜(AFM)力-距离曲线,原位测量硅基衬底上普通薄聚苯乙烯(PS)薄膜的粘附力(Fad),并随温度和厚度变化。通过观察粘随温度降低的突变,精确确定了玻璃化转变温度(Tg)。结果显示,Tg随薄膜厚度减小而单调下降,揭示了普通薄聚合物薄膜弛豫动力学的厚度依赖性。

研究背景

纳米科学推动了纳米级厚度聚合物薄膜的广泛应用。受限制效应影响,薄膜的物理性质与块体显著不同。多项研究报道Tg随厚度减小而降低,导致薄膜在远低于块体Tg的温度下发生弛豫,这限制了薄聚合物在微纳器件中作为介质层的应用(过早介质损耗)。因此,纳米尺度的弛豫行为精确测量对纳米技术发展至关重要。

AFM具备纳米级分辨率和高灵敏度,适合表征纳米结构的表面形貌、力学、电学和磁学性质。早期AFM研究探讨了表面浸润退火、电力显微镜测Tg抑制、短链PS粘度等。摩擦力、粘附力、粘弹性等决定弛豫动力学的力学性质,可通过摩擦力显微镜、侧向力显微镜和力-距离谱表征。

AFM探针能探测极弱力,提供直接、高灵敏的方法探究粘附力,从而间接表征聚合物表面力学状态。本文量化了AFM探针与普通薄PS薄膜的粘附力随温度和厚度的变化,提取厚度依赖的Tg。

实验方法

材料

聚苯乙烯(分子量4000)购自Alfa Aesar;氯苯(国药集团)和单面抛光硅片(Silicon Quest)开封即用。将不同浓度的PS氯苯溶液以不同转速旋涂,制备厚度18–127 nm的薄膜。薄膜在358 K退火2 h,厚度由AFM测定。

仪器

力-距离曲线和粘附力在Dimension Icon AFM(Bruker)上记录。采用标称弹簧常数约0.1 N·m⁻¹的氮化硅V形探针,接触模式下测量探针-样品相互作用。

粘附力测量

图1示意了测量Fad的AFM靠近-退离序列:探针先无接触靠近表面,然后接触、压入薄膜,最后撤离,产生的拉脱力即为粘附力。测试在从块体Tg以上以2 K·min⁻¹降温、相对湿度<10%的条件下进行,以抑制毛细力贡献。

图1. 硅基薄聚合物薄膜粘附力测量示意图。a 初始靠近;b 接触;c 压入;d–e 撤离。

模量测量

早期工作监测表面电位研究超薄PS和PMMA薄膜,二者Tg分别为328 K和358 K且厚度无关。为对比PS/PMMA共混体系,制备37 nm厚共混膜,在298 K和548 K成像形貌、模量和粘附。548 K时PS链去润湿,厚度减至22 nm(图2)。模量和粘附图谱的显著对比(图2h–i)证实粘附力变化可量化普通薄PS薄膜的Tg。

图2. PS–PMMA共混膜在298 K(a–c)和548 K(d–f)下的表面形貌、模量映射、粘附力映射;(j)–(k) 两温度下AFM形貌。

结果与讨论

摩擦力显微镜敏感于侧向粘弹性,而粘附力反映垂向力学性质,单点测量减少衬底干扰。探针压入深度直接表征粘弹性。原位AFM加热/冷却监测温度依赖粘附力。从块体Tg以上以2 K·min⁻¹降温,每个温度保持5 min确保热平衡。

图3展示93 nm PS薄膜在393、373、353、343 K的力-距离曲线。393 K曲线有明显尾部,表明表面较软,压入深度208 nm。随温度降低,压入深度分别减至109 nm(373 K)和89 nm(353 K),343 K曲线变陡峭,反映表面变硬。

图3. 93 nm PS薄膜在393 K(a)、373 K(b)、353 K(c)、343 K(d)的力-距离曲线。虚线标示压入深度。

每个温度记录300条力曲线构建统计分布。直方图(图4)显示粘附力在393 K为91 nN,353 K降至30 nN,323 K为26 nN。粘附力的突变标志着玻璃化转变。

图4. 393 K(a)、343 K(b)、303 K(c)的粘附力直方图分布。

图5给出18–127 nm PS薄膜Fad随温度变化。高温下大粘附力源于链段协同弛豫;降温时发生急剧跃变,随后进入平台期,对应玻璃态。两线性区交点即各厚度的Tg。

图5. 18–127 nm PS薄膜粘附力的温度依赖性。

Fad包含毛细力、范德华力和接触力。干燥低湿环境下,范德华力和静电力可忽略,主导项为接触力和毛细力。探针压入深度反映薄膜粘弹性和接触面积。20 nm PS薄膜在403 K、373 K、298 K的AFM形貌(图6)显示表面粗糙度随降温从1.13 nm降至0.56 nm。高温下软糙表面产生较大实际接触面和粘性液桥,增强粘附;玻璃态下平坦刚性表面减小接触面积和毛细贡献,粘附力降至恒定低值。

图6. 20 nm PS薄膜在403 K(a)、373 K(b)、298 K(c)的AFM形貌;(d) 粗糙度温度依赖;(e–f) 接触面积和液桥对Fad贡献示意。

计算得到的Tg值(表1)显示:>100 nm薄膜保持块体Tg(363 K),薄膜则显著降低。图7a绘制Tg随厚度变化,确认趋势。

图7. a 普通薄PS薄膜Tg的厚度依赖;b 三层模型说明表面层比例增加导致Tg降低。

Keddie等人提出的经验关系式描述该行为:
\[T_g(d)=T_g^{\text{bulk}}\bigl[1-(A/d)^{\delta}\bigr]\]
其中A ≈ 3.2 nm,δ ≈ 1.8。方程预测厚膜Tg趋近块体值。二/三层模型归因于液态样表面层增强链段运动性,而衬底界面“死层”抑制运动。薄膜变薄时,移动表面层相对厚度增加,导致整体Tg下降。

结论

本文证实AFM力-距离谱可灵敏追踪普通薄PS薄膜粘附力变化,提取厚度依赖Tg。Tg随厚度减小系统性下降,符合移动表面层存在的图像。研究深化了对薄聚合物薄膜弛豫动力学的理解,可指导纳米器件中聚合物组件的设计。后续工作仍需解决关于Tg厚度依赖性的争议。

缩略语

AFM
原子力显微镜
AFMAM
原子力显微镜粘附测量
EFM
电力显微镜
Fad
粘附力
FFM
摩擦力显微镜
LFM
侧向力显微镜
PS
聚苯乙烯
PtBuA
聚(叔丁基丙烯酸酯)
SFM
扫描力显微镜
Tg
玻璃化转变温度

纳米材料

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