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利用超临界CO₂-NMP复合溶剂超声剥离实现MoS₂高产率制备

摘要

二硫化钼(MoS₂)是一种极具潜力的层状材料,当其厚度减少至几层时,电子、光学和力学性能最为优异。本文提出了一种快速、可扩展的剥离方案,通过在超临界CO₂环境中结合N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)作为助溶剂进行超声处理,实现了>90%的少层MoS₂产率。该方法超越了传统液相剥离技术(通常丢弃大部分未剥离沉淀),为MoS₂在储能、催化、传感和光子学领域的全面应用提供了实用路径。

引言

二维过渡金属二硫属化物(TMDs)因其原子级薄片表现出从半导体到超导的多样电子行为而备受关注。MoS₂作为典型TMD,由六方Mo层夹在S层之间组成。其强平面内共价键和弱平面外范德华力使其易于剥离为单个纳米片,从而解锁了比表面积增加、直接带隙和表面反应性增强等新物理化学性质。

然而,实现这些优势需要可扩展、高质量的少层MoS₂生产。现有技术(化学气相沉积、微机械剥离、离子嵌入、水热合成)存在成本高、产率低或缺陷形成等缺陷。液相剥离最具前景,但传统方法依赖难以去除的表面活性剂和长时间超声导致缺陷。

因此,我们开发了一种利用超临界CO₂独特性质与NMP溶剂匹配能力相结合的液相方法。该双溶剂体系降低了剥离能垒,促进层间插层,并大幅加速过程,提供了制备少层MoS₂的可扩展路线。

方法

材料

使用商业MoS₂(99.5%)和NMP(99.9%),无需进一步纯化。无水乙醇(99.5%)、去离子水和CO₂(99.5%)分别来自成都和上海供应商。

剥离过程

剥离装置由耐压20 MPa的不锈钢反应器(最大250 mL)和超声探头组成。典型实验中,将100 mg MoS₂分散在150 mL溶剂中,加热至目标温度,通入CO₂加压至14 MPa。随后施加600 W超声处理1小时。减压后,通过过滤收集纳米片,经洗涤干燥备用。

表征

X射线衍射(Rigaku, CuKα)分析结晶度;拉曼光谱(Thermo Fisher, 532 nm)评估层数;原子力显微镜(ANSYS)测量形貌;BET比表面积(Micromeritics)量化特定面积;X射线光电子能谱(ESCALAB 250Xi)探测化学态;高分辨透射电镜(Quanta)确认晶格条纹。

结果与讨论

剥离机理如图1所示。体相MoS₂悬浮于超临界CO₂-NMP混合物中并超声处理。超临界CO₂凭借气体般的扩散性和液体般的密度插入层间,而NMP的表面张力与MoS₂紧密匹配,降低了剥离焓变势垒。两者协同作用显著提高了产率。

利用超临界CO₂-NMP复合溶剂超声剥离实现MoS₂高产率制备
图1 剥离过程示意图及超临界CO₂与NMP协同插层机理

对照实验(图2a)表明单独CO₂剥离效果极弱,而互溶助溶剂(乙醇、NMP)增强效果。单独NMP导致XRD峰强度下降最明显,确认其降低剥离势垒的作用。结合超临界CO₂后,优值因子(F.O.M)从单独NMP或CO₂的0.526降至0.152,展现强协同效应(表1)。

利用超临界CO₂-NMP复合溶剂超声剥离实现MoS₂高产率制备
图2 a) 不同助溶剂XRD图谱;b) NMP+CO₂协同效应;c) 拉曼光谱

拉曼光谱(图2c)显示E₂g¹和A₁g峰展宽,表明层数减少和声子限域效应。XPS确认Mo⁴⁺和S²⁻氧化态,与体相MoS₂一致。

利用超临界CO₂-NMP复合溶剂超声剥离实现MoS₂高产率制备
图3 剥离MoS₂的Mo 3d和S 2p XPS谱图

AFM(图4a)显示纳米片横向尺寸100-450 nm,厚度3-9 nm,对应5-15层。HRTEM(图4b)证实约18-19层(≈11 nm)。BET分析(图5)显示比表面积36.86 m²/g,换算平均约17层,确认高产率工艺(>90%,无需离心)。

利用超临界CO₂-NMP复合溶剂超声剥离实现MoS₂高产率制备
图5 不同溶剂制备MoS₂的BET比表面积

再分散测试(图6)表明NMP/CO₂混合物制得的MoS₂在NMP中至少稳定5小时,而单独CO₂样品迅速沉降,凸显协同方法赋予的优异分散性。

利用超临界CO₂-NMP复合溶剂超声剥离实现MoS₂高产率制备
图6 复合溶剂制备MoS₂的分散稳定性(a,b)及沉降后图像(c,d)

结论

我们展示了一种利用超临界CO₂与NMP协同作用的液相剥离策略,在1小时内实现>90%产率的少层MoS₂快速制备。该工艺保持层结构完整,产出稳定胶体分散液,为MoS₂在储能、催化、传感和光子学领域的大规模应用铺平道路。

数据与材料可用性

支持本研究发现的数据可向通讯作者合理请求获取。

缩略语

AFM:
原子力显微镜
BET:
Brunauer–Emmett–Teller
F.O.M:
优值因子
FWHM:
半峰全宽
HRTEM:
高分辨透射电子显微镜
MoS₂:
二硫化钼
NMP:
N-甲基-2-吡咯烷酮
TMD:
过渡金属二硫属化物
XPS:
X射线光电子能谱
XRD:
X射线衍射

纳米材料

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