共溅射与原子层沉积制备银纳米颗粒SERS基底:甘油检测的高灵敏度与30天稳定性
摘要
我们提出了一种简化的方法,通过将银(Ag)和铝(Al)的共溅射与原子层沉积(ALD)相结合,制备高灵敏度且耐用的表面增强拉曼散射(SERS)基底。工艺始于将Ag和Al共溅射到玻璃载玻片上,随后用磷酸选择性去除Al,形成均匀的不连续Ag薄膜。该Ag层作为主要SERS活性组分,对甘油检测表现出强灵敏度。随后通过ALD沉积的超薄TiO₂涂层,通过化学增强和封装Ag纳米颗粒(NPs)提供的长程电磁耦合,进一步放大拉曼信号。重要的是,TiO₂层保护Ag NPs免受氧化,在环境条件下保持显著增强效果超过30天。这种稳健的SERS平台为探测新型液体润滑剂中的界面状态提供了可靠工具。
引言
自首次观测以来,表面增强拉曼散射(SERS)凭借其高灵敏度、快速响应和非破坏性指纹识别能力,已成为检测痕量分析物的基石。原位和实时SERS的最新进展为表面科学开辟了新途径,使详细的界面研究成为可能。包括Au、Ag、Cu、Pt在内的各种金属已被探索作为等离子体基底,但Ag纳米结构因其卓越的等离子体共振仍是最有效的。
提升Ag基SERS性能的努力集中在控制纳米颗粒(NP)的尺寸、形状、密度和排列。球形、立方体、八面体和线状Ag NPs已通过电子束光刻、反应离子刻蚀、浸渍镀和化学还原等方法制备。然而,鲜有研究针对超润滑液体定制的Ag NP SERS基底,其中快速氧化和团聚限制了性能和寿命。此外,润滑剂中的湿度波动会衰减拉曼增强,损害摩擦过程中的界面分析。
本文介绍一种简便的共溅射/ALD方法,制备针对甘油检测(超润滑剂关键成分)优化的高灵敏度稳定Ag NP SERS基底。通过共溅射Ag与Al,再去除Al获得均匀Ag薄膜,通过调控沉积时间和功率比调节NP尺寸和分布。后续TiO₂ ALD封装不仅防止Ag氧化,还增强拉曼信号,实现空气中>30天稳定性。
实验方法
共溅射制备玻璃上的Ag NPs
玻璃载玻片(15×15 mm,Sail Brand)依次经丙酮、乙醇、去离子水超声清洗各15分钟去除污染物。高纯度Ag和Al(≥99.99%,直径60 mm)在LLJGP-450磁控溅射系统中室温共溅射。基压<4×10⁻⁴ Pa,氩气压0.8 Pa。Ag靶射频功率固定30 W,Al直流功率变化以调节Ag:Al比例。沉积后,浸入0.5 M磷酸溶液4小时刻蚀去除Al,经去离子水冲洗5次并氮气干燥。所得Ag NP层作为SERS活性表面。
ALD制备保护性TiO₂层
使用Picson-100 ALD反应器在Ag NPs上沉积超薄TiO₂薄膜。TiCl₄(99.99%)和H₂O在300°C、10 hPa下交替脉冲。脉冲/吹扫时间:TiCl₄ 400 ms/5 s,H₂O 200 ms/8 s。生长速率0.04 nm/循环,循环次数按所需TiO₂厚度确定(如2 nm)。
基底表征与SERS测量
场发射SEM(日立S-4800)和EDS(ORAN System SIX)表征表面形貌和元素组成。UV-Vis吸收(Perkin Elmer Lambda2)探测等离子体特征。SERS光谱用Renishaw InVia-reflex共聚焦拉曼显微镜采集(532 nm激光、1800线/mm光栅、50×物镜)。甘油溶液(0.1 mL 10%甘油)滴铸测试。
结果与讨论
共溅射后去除Al可得到均匀Ag NP薄膜作为SERS活性组分。图1展示制备流程。
甘油拉曼信号随共溅射时间增加,在1:1 Ag:Al功率比下60秒达到峰值,超过60秒增强因子(EF)急剧下降(图2a-b)。沉积速率0.14 nm/s。固定60秒改变Al含量显示,EF随Al增加至2:1 Ag:Al比时上升,之后下降(图2c-d)。此趋势反映了最大化热点密度的最佳NP尺寸和间距。
SEM图像(图3)证实最佳基底(1:1比、60秒)呈现最均匀NP分布,直接关联其优异EF。EDS(图4a)验证Ag存在且无残留Al。UV-Vis光谱(图4b)显示等离子峰随共溅射时间和功率比从404 nm(30秒,1:1)红移至468 nm(60秒,4:1),反映尺寸变化。
均匀性通过十个随机点拉曼光谱验证,强度一致(图5a)。但未涂层基底在空气中信号快速衰减,证实Ag氧化是主要降解机制(图5b)。
ALD沉积TiO₂不仅防氧化还增强拉曼信号。2 nm TiO₂层产生最强甘油响应(图6a)。更厚TiO₂因电磁场随间隔层厚度指数衰减而衰减信号。关键是,2 nm TiO₂保护基底在空气中30天保留>70%初始EF(图6b)。
结论
我们开发了一种简便的共溅射/ALD协议,制备出具有卓越灵敏度和>30天空气稳定性的Ag NP SERS基底用于甘油检测。精确控制沉积时间和Ag:Al功率比生成良好分布的NPs,超薄TiO₂壳层提供化学和电磁双重增强并防止氧化。该平台有望实现先进液体润滑剂中可靠的界面研究。
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